Penjerukan
1. Tujuan: untuk mengeluarkan filem oksida pada permukaan wayar, dan untuk membentuk filem fosfat pada permukaan logam untuk mengurangkan calar pada alat dan mati semasa lukisan wayar dan jeti sejuk atau proses pembentukan.
2. Proses operasi:
Penjerukan: Rendam seluruh elemen cakera dalam tiga tangki asid hidroklorik dengan kepekatan 20-25 peratus pada suhu bilik selama beberapa minit, tujuannya adalah untuk mengeluarkan filem oksida pada permukaan wayar.
Clearwater: Keluarkan produk kakisan asid hidroklorik pada permukaan wayar.
Asid oksalik: meningkatkan aktiviti logam untuk menjadikan filem yang dihasilkan dalam langkah seterusnya lebih tumpat
Rawatan salutan: rendam unsur cakera dalam fosfat, hubungi permukaan keluli dengan larutan rawatan kimia dan larutkan keluli untuk membentuk sebatian tidak larut (seperti Zn2Fe(Po4)2·4H2o), yang melekat pada permukaan keluli untuk membentuk salutan.
Clearwater: buang sisa pada permukaan filem.
Pelincir: Oleh kerana pekali geseran filem fosfat tidak terlalu rendah, ia tidak dapat memberikan pelinciran yang mencukupi semasa pemprosesan, tetapi ia bertindak balas dengan sabun logam (seperti sabun natrium) untuk membentuk lapisan sabun logam keras, yang boleh meningkatkan prestasi pelincirannya.
